Chceme Vás upozorniť, že objednávky zadané v termíne od 23.12.2024 do 07.01.2025 na tovar, ktorý sa nachádza na našom centrálnom sklade (externý sklad) nevieme doručiť do konca roka 2025. Tovar čo je skladom priamo na našej prevádzke expedujeme cez pracovné dni. Upozorňujeme že dochádza aj ku zmene DPH na 23%! Ospravedlňujeme sa za prípadné komplikácie a ďakujeme za pochopenie. V prípade otázok alebo úprav objednávky nás neváhajte kontaktovať.

K&F Concept K&F 49MM, ultra-nízky odrazový UV filter série NANO-X, ultra číre šošovky, vodotesné, proti poškriabaniu

Kód: AVY-KF01.2460
€50 €41,67 bez DPH
Skladom (3 ks)
Môžeme doručiť do:
30.12.2024
Možnosti doručenia

Detailné informácie

Podrobný popis

StránkaUltra-nízkoodrazový UV filter K&F 49MM série Nano-X je navrhnutý tak, aby zlepšil kvalitu obrazu znížením odrazov a zlepšením priepustnosti svetla. Tento UV filter je vyrobený z prvotriednych materiálov a pokročilých technológií povrchovej úpravy, aby bola zaistená odolnosť a vysoký výkon, vďaka čomu je vynikajúcou voľbou pre fotografov, ktorí chcú chrániť svoje šošovky pri zachovaní skutočných farieb a ostrosti svojich snímok.

Kľúčové vlastnosti

  • Ultra nízky odraz:

    • Technológia titánovej povrchovej úpravy znižuje povrchový odraz na 0,1 %.
    • Zlepšuje priepustnosť svetla a minimalizuje odlesky v protisvetle a duchov.
    • Zabezpečuje bezchybnú ostrosť a čistotu.
  • Prémiové optické sklo:

    • Vyrobené z optického skla s vysokým rozlíšením (HD).
    • Zachováva skutočnú farbu fotografií a poskytuje snímky ostré ako britva.
  • Optimálna kvalita obrazu:

    • Miera priepustnosti svetla ≥ 99,8 %.
    • Miera odrazu ≤ 0,1 %, ideálne pre natáčanie 4K/8K HD videa a vysokokvalitné fotografické zobrazovanie.
  • 28-vrstvový Multi-Resistant Coating (MRC):

    • Zelená nano povrchová úprava robí filter odolným proti poškriabaniu, vodoodpudivý a odolný voči olejom a prachu.
    • Zvyšuje odolnosť a životnosť filtra.
  • Tenký rám bez vinetácie:

    • Tenký a ľahký hliníkový rám s hrúbkou 3,3 mm.
    • Znižuje dopad svetla a efektívne sa vyhýba tmavým rohom pri širokouhlom snímaní.

technické údaje

  • Priemer: 49 mm
  • Materiál: HD optické sklo
  • Nátery: 28-vrstvový multi-odolný náter (MRC)
  • Materiál rámu: Hliník
  • Hrúbka rámu: 3,3 mm
  • Rýchlosť prenosu svetla: ≥ 99,8 %
  • Miera odrazu: ≤ 0,1 %

Popis

StránkaUltra-nízkoodrazový UV filter K&F 49MM série Nano-X je navrhnutý tak, aby poskytoval fotografom vynikajúcu kvalitu obrazu a zároveň chránil ich šošovky. Využitím pokročilej technológie titánovej povrchovej úpravy tento filter znižuje povrchové odrazy na pôsobivých 0,1 %, čím výrazne zvyšuje priepustnosť svetla a minimalizuje nežiaduce odlesky a duchov. To zaisťuje, že vaše obrázky sú ostré a jasné a zachovávajú skutočné farby zachytené vaším fotoaparátom.

Tento UV filter vyrobený z optického skla s vysokým rozlíšením zaisťuje kvalitu obrazu ostrú ako britva. Miera priepustnosti svetla ≥ 99,8 % a miera odrazu ≤ 0,1 % robia tento filter vhodný na natáčanie videa v rozlíšení 4K a 8K, ako aj na fotografické zobrazovanie vo vysokom rozlíšení.

Filter má 28-vrstvový multi-odolný povlak, ktorý obsahuje zelený nano povlak. Vďaka tomu je filter odolný voči poškriabaniu, odpudzuje vodu a je odolný voči oleju a prachu, čo zaisťuje jeho odolnosť a dlhú životnosť. Tenký a ľahký hliníkový rám s hrúbkou len 3,3 mm minimalizuje vplyv na priepustnosť svetla a účinne zabraňuje vinetácii aj pri fotografovaní širokouhlými objektívmi.

Záver

StránkaUltra-nízkoodrazový UV filter K&F 49MM série Nano-X je nevyhnutným doplnkom pre fotografov, ktorí chcú zlepšiť kvalitu obrazu a zároveň chrániť svoje šošovky. Jeho pokročilé technológie povrchovej úpravy, prémiové optické sklo a tenký dizajn z neho robia spoľahlivý a vysokovýkonný nástroj na zachytávanie ostrých, jasných a verných obrázkov. Či už natáčate videá vo vysokom rozlíšení alebo fotografie vo vysokom rozlíšení, tento UV filter zaisťuje optimálnu kvalitu obrazu a ochranu objektívu.

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole:

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole: